Proses Distilasi lan Pemurnian Sulfur 6N kanthi Kemurnian Ultra Tinggi kanthi Parameter Rinci‌

Pawarta

Proses Distilasi lan Pemurnian Sulfur 6N kanthi Kemurnian Ultra Tinggi kanthi Parameter Rinci‌

Produksi belerang kemurnian ultra-tinggi 6N (≥99,9999%) mbutuhake distilasi multi-tahap, adsorpsi jero, lan filtrasi ultra-bersih kanggo ngilangi logam bekas, rereged organik, lan partikulat. Ing ngisor iki minangka proses skala industri sing nggabungake distilasi vakum, pemurnian sing dibantu gelombang mikro, lan teknologi pasca-perawatan presisi.


I. Perawatan Awal Bahan Baku lan Penghilangan Kotoran

1. Pemilihan Bahan Baku lan Pra-perawatan

  • Syarat‌: Kemurnian belerang awal ≥99,9% (kelas 3N), total pengotor logam ≤500 ppm, kandungan karbon organik ≤0,1%.
  • Peleburan sing Dibantu Microwave‌:
    Belerang mentah diolah ing reaktor gelombang mikro (frekuensi 2,45 GHz, daya 10–15 kW) ing suhu 140–150°C. Rotasi dipol sing diinduksi gelombang mikro njamin leleh kanthi cepet nalika ngurai rereged organik (kayata, senyawa tar). Wektu leleh: 30–45 menit; ambane penetrasi gelombang mikro: 10–15 cm
  • Pangumbahan Banyu Deionisasi‌:
    Belerang cair dicampur karo banyu deionisasi (resistivitas ≥18 MΩ·cm) kanthi rasio massa 1:0,3 ing reaktor sing diaduk (120°C, tekanan 2 bar) sajrone 1 jam kanggo mbusak uyah sing larut ing banyu (kayata, amonium sulfat, natrium klorida). Fase banyu didekantasi lan digunakake maneh sajrone 2-3 siklus nganti konduktivitas ≤5 μS/cm.

2. Adsorpsi lan Filtrasi Multi-Tahap

  • Adsorpsi Karbon Aktif/Bumi Diatom‌:
    Tanah diatom (0,5–1%) lan karbon aktif (0,2–0,5%) ditambahake ing belerang cair kanthi perlindungan nitrogen (130°C, diaduk 2 jam) kanggo nyerep kompleks logam lan sisa organik.
  • Filtrasi Ultra-Presisi‌:
    Filtrasi rong tahap nggunakake filter sinter titanium (ukuran pori 0,1 μm) ing tekanan sistem ≤0,5 MPa. Jumlah partikel pasca-filtrasi: ≤10 partikel/L (ukuran >0,5 μm).

II. Proses Distilasi Vakum Multi-Tahap

1. Distilasi Primer (Penghilangan Pengotor Logam)

  • Piranti‌: Kolom distilasi kuarsa kemurnian tinggi nganggo kemasan terstruktur baja tahan karat 316L (≥15 pelat teoretis), vakum ≤1 kPa.
  • Parameter Operasional‌:
  • Suhu Pakan‌: 250–280°C (belerang umob ing suhu 444,6°C ing tekanan sekitar; vakum nyuda titik umob dadi 260–300°C).
  • Rasio Refluks‌: 5:1–8:1; fluktuasi suhu ndhuwur kolom ≤±0,5°C.
  • Produk‌: Kemurnian belerang kondensasi ≥99,99% (kelas 4N), total pengotor logam (Fe, Cu, Ni) ≤1 ppm.

‌2. Distilasi Molekuler Sekunder (Penghapusan Pengotor Organik)‌

  • Piranti‌: Distiler molekuler jalur cendhak kanthi celah penguapan-kondensasi 10–20 mm, suhu penguapan 300–320°C, vakum ≤0,1 Pa.
  • Pamisahan Kekotoran‌:
    Organik kanthi umob endhek (kayata, tioeter, tiofena) diuap lan dievakuasi, dene rereged kanthi umob dhuwur (kayata, poliaromatika) tetep ana ing residu amarga beda jalur bebas molekuler.
  • Produk‌: Kemurnian belerang ≥99,999% (kelas 5N), karbon organik ≤0,001%, tingkat residu <0,3%.

‌3. Pemurnian Zona Tersier (Ncapai Kemurnian 6N)‌

  • Piranti‌: Pemurni zona horisontal kanthi kontrol suhu multi-zona (±0,1°C), kecepatan perjalanan zona 1–3 mm/jam.
  • Segregasi‌:
    Nggunakake koefisien segregasi (K=Csolid/CliquidK=Cpadat/C(cairan), zona 20–30 ngliwati logam konsentrat (As, Sb) ing pucuk ingot. 10–15% pungkasan saka ingot belerang dibuwang.

III. Pasca-Perawatan lan Pembentukan Ultra-Resik

1. Ekstraksi Pelarut Ultra-Murni

  • Ekstraksi Eter/Karbon Tetraklorida‌:
    Belerang dicampur karo eter kelas kromatografi (rasio volume 1:0,5) ing sangisore bantuan ultrasonik (40 kHz, 40°C) sajrone 30 menit kanggo mbusak jejak organik polar.
  • Pemulihan Pelarut‌:
    Adsorpsi saringan molekuler lan distilasi vakum nyuda residu pelarut dadi ≤0,1 ppm.

2. Ultrafiltrasi lan Pertukaran Ion

  • Ultrafiltrasi Membran PTFE‌:
    Belerang cair disaring liwat membran PTFE 0,02 μm ing suhu 160–180°C lan tekanan ≤0,2 MPa.
  • Resin Penukar Ion‌:
    Resin kelat (kayata, Amberlite IRC-748) mbusak ion logam tingkat ppb (Cu²⁺, Fe³⁺) kanthi laju aliran 1–2 BV/jam.

‌3. Pembentukan Lingkungan Ultra-Resik‌

  • Atomisasi Gas Inert‌:
    Ing kamar resik Kelas 10, belerang cair diatomisasi karo nitrogen (tekanan 0,8–1,2 MPa) dadi granul bunder 0,5–1 mm (kelembapan <0,001%).
  • Kemasan Vakum‌:
    Produk pungkasan ditutup vakum nganggo film komposit aluminium nganggo argon ultra-murni (kemurnian ≥99,9999%) kanggo nyegah oksidasi.

IV. Parameter Proses Utama

Tahap Proses

Suhu (°C)

Tekanan

Wektu/Kacepetan

Peralatan Inti

Lelehan Oven Microwave

140–150

Ambient

30–45 menit

Reaktor Gelombang Mikro

Pangumbahan Banyu Deionisasi

120

2 bar

1 jam/siklus

Reaktor sing diaduk

Distilasi Molekuler

300–320

≤0.1 Pa

Terus-terusan

Penyuling Molekul Jalur Pendek

Pemurnian Zona

115–120

Ambient

1–3 mm/jam

Pemurni Zona Horisontal

Ultrafiltrasi PTFE

160–180

≤0.2 MPa

Aliran 1–2 m³/jam

Filter Suhu Tinggi

Atomisasi Nitrogen

160–180

0,8–1,2 MPa

Granul 0,5–1 mm

Menara Atomisasi


V. Kontrol Kualitas lan Pengujian

  1. Analisis Kotoran Jejak‌:
  • GD-MS (Spektrometri Massa Pelepasan Cahya)‌: Ndeteksi logam ing ≤0,01 ppb.
  • Penganalisis TOC‌: Ngukur karbon organik ≤0,001 ppm.
  1. Kontrol Ukuran Partikel‌:
    Difraksi laser (Mastersizer 3000) njamin deviasi D50 ≤±0,05 mm.
  2. Karesikan Permukaan‌:
    XPS (Spektroskopi Fotoelektron Sinar-X) ngonfirmasi kekandelan oksida permukaan ≤1 nm.

VI. Desain Keamanan lan Lingkungan

  1. Pencegahan Ledakan‌:
    Detektor geni inframerah lan sistem banjir nitrogen njaga tingkat oksigen <3%
  2. Kontrol Emisi‌:
  • Gas Asam‌: Nggosok NaOH rong tahap (20% + 10%) mbusak ≥99,9% H₂S/SO₂.
  • VOC‌: Rotor zeolit ​​+ RTO (850°C) ngurangi hidrokarbon non-metana dadi ≤10 mg/m³.
  1. Daur Ulang Sampah‌:
    Pangurangan suhu dhuwur (1200°C) bisa mbalekake logam; kandungan sulfur residu <0,1%.

VII. Metrik Tekno-Ekonomi

  • Konsumsi Energi‌: listrik 800–1200 kWh lan 2–3 ton uap saben ton belerang 6N.
  • Asil panen‌: Pemulihan belerang ≥85%, tingkat residu <1,5%.
  • Biaya‌: Biaya produksi ~120.000–180.000 CNY/ton; rega pasar 250.000–350.000 CNY/ton (kelas semikonduktor).

Proses iki ngasilake sulfur 6N kanggo fotoresist semikonduktor, substrat senyawa III-V, lan aplikasi canggih liyane. Pemantauan wektu nyata (kayata, analisis unsur LIBS) lan kalibrasi kamar resik ISO Kelas 1 njamin kualitas sing konsisten.

Cathetan sikil

  1. Referensi 2: Standar Pemurnian Belerang Industri
  2. Referensi 3: Teknik Filtrasi Lanjutan ing Teknik Kimia
  3. Referensi 6: Buku Pegangan Pangolahan Bahan Kemurnian Tinggi
  4. Referensi 8: Protokol Produksi Kimia Kelas Semikonduktor
  5. Referensi 5: Optimasi Distilasi Vakum

Wektu kiriman: 02-Apr-2025