Produksi belerang kemurnian ultra-tinggi 6N (≥99,9999%) mbutuhake distilasi multi-tahap, adsorpsi jero, lan filtrasi ultra-bersih kanggo ngilangi logam bekas, rereged organik, lan partikulat. Ing ngisor iki minangka proses skala industri sing nggabungake distilasi vakum, pemurnian sing dibantu gelombang mikro, lan teknologi pasca-perawatan presisi.
I. Perawatan Awal Bahan Baku lan Penghilangan Kotoran
1. Pemilihan Bahan Baku lan Pra-perawatan
- Syarat: Kemurnian belerang awal ≥99,9% (kelas 3N), total pengotor logam ≤500 ppm, kandungan karbon organik ≤0,1%.
- Peleburan sing Dibantu Microwave:
Belerang mentah diolah ing reaktor gelombang mikro (frekuensi 2,45 GHz, daya 10–15 kW) ing suhu 140–150°C. Rotasi dipol sing diinduksi gelombang mikro njamin leleh kanthi cepet nalika ngurai rereged organik (kayata, senyawa tar). Wektu leleh: 30–45 menit; ambane penetrasi gelombang mikro: 10–15 cm - Pangumbahan Banyu Deionisasi:
Belerang cair dicampur karo banyu deionisasi (resistivitas ≥18 MΩ·cm) kanthi rasio massa 1:0,3 ing reaktor sing diaduk (120°C, tekanan 2 bar) sajrone 1 jam kanggo mbusak uyah sing larut ing banyu (kayata, amonium sulfat, natrium klorida). Fase banyu didekantasi lan digunakake maneh sajrone 2-3 siklus nganti konduktivitas ≤5 μS/cm.
2. Adsorpsi lan Filtrasi Multi-Tahap
- Adsorpsi Karbon Aktif/Bumi Diatom:
Tanah diatom (0,5–1%) lan karbon aktif (0,2–0,5%) ditambahake ing belerang cair kanthi perlindungan nitrogen (130°C, diaduk 2 jam) kanggo nyerep kompleks logam lan sisa organik. - Filtrasi Ultra-Presisi:
Filtrasi rong tahap nggunakake filter sinter titanium (ukuran pori 0,1 μm) ing tekanan sistem ≤0,5 MPa. Jumlah partikel pasca-filtrasi: ≤10 partikel/L (ukuran >0,5 μm).
II. Proses Distilasi Vakum Multi-Tahap
1. Distilasi Primer (Penghilangan Pengotor Logam)
- Piranti: Kolom distilasi kuarsa kemurnian tinggi nganggo kemasan terstruktur baja tahan karat 316L (≥15 pelat teoretis), vakum ≤1 kPa.
- Parameter Operasional:
- Suhu Pakan: 250–280°C (belerang umob ing suhu 444,6°C ing tekanan sekitar; vakum nyuda titik umob dadi 260–300°C).
- Rasio Refluks: 5:1–8:1; fluktuasi suhu ndhuwur kolom ≤±0,5°C.
- Produk: Kemurnian belerang kondensasi ≥99,99% (kelas 4N), total pengotor logam (Fe, Cu, Ni) ≤1 ppm.
2. Distilasi Molekuler Sekunder (Penghapusan Pengotor Organik)
- Piranti: Distiler molekuler jalur cendhak kanthi celah penguapan-kondensasi 10–20 mm, suhu penguapan 300–320°C, vakum ≤0,1 Pa.
- Pamisahan Kekotoran:
Organik kanthi umob endhek (kayata, tioeter, tiofena) diuap lan dievakuasi, dene rereged kanthi umob dhuwur (kayata, poliaromatika) tetep ana ing residu amarga beda jalur bebas molekuler. - Produk: Kemurnian belerang ≥99,999% (kelas 5N), karbon organik ≤0,001%, tingkat residu <0,3%.
3. Pemurnian Zona Tersier (Ncapai Kemurnian 6N)
- Piranti: Pemurni zona horisontal kanthi kontrol suhu multi-zona (±0,1°C), kecepatan perjalanan zona 1–3 mm/jam.
- Segregasi:
Nggunakake koefisien segregasi (K=Csolid/CliquidK=Cpadat/C(cairan), zona 20–30 ngliwati logam konsentrat (As, Sb) ing pucuk ingot. 10–15% pungkasan saka ingot belerang dibuwang.
III. Pasca-Perawatan lan Pembentukan Ultra-Resik
1. Ekstraksi Pelarut Ultra-Murni
- Ekstraksi Eter/Karbon Tetraklorida:
Belerang dicampur karo eter kelas kromatografi (rasio volume 1:0,5) ing sangisore bantuan ultrasonik (40 kHz, 40°C) sajrone 30 menit kanggo mbusak jejak organik polar. - Pemulihan Pelarut:
Adsorpsi saringan molekuler lan distilasi vakum nyuda residu pelarut dadi ≤0,1 ppm.
2. Ultrafiltrasi lan Pertukaran Ion
- Ultrafiltrasi Membran PTFE:
Belerang cair disaring liwat membran PTFE 0,02 μm ing suhu 160–180°C lan tekanan ≤0,2 MPa. - Resin Penukar Ion:
Resin kelat (kayata, Amberlite IRC-748) mbusak ion logam tingkat ppb (Cu²⁺, Fe³⁺) kanthi laju aliran 1–2 BV/jam.
3. Pembentukan Lingkungan Ultra-Resik
- Atomisasi Gas Inert:
Ing kamar resik Kelas 10, belerang cair diatomisasi karo nitrogen (tekanan 0,8–1,2 MPa) dadi granul bunder 0,5–1 mm (kelembapan <0,001%). - Kemasan Vakum:
Produk pungkasan ditutup vakum nganggo film komposit aluminium nganggo argon ultra-murni (kemurnian ≥99,9999%) kanggo nyegah oksidasi.
IV. Parameter Proses Utama
| Tahap Proses | Suhu (°C) | Tekanan | Wektu/Kacepetan | Peralatan Inti |
| Lelehan Oven Microwave | 140–150 | Ambient | 30–45 menit | Reaktor Gelombang Mikro |
| Pangumbahan Banyu Deionisasi | 120 | 2 bar | 1 jam/siklus | Reaktor sing diaduk |
| Distilasi Molekuler | 300–320 | ≤0.1 Pa | Terus-terusan | Penyuling Molekul Jalur Pendek |
| Pemurnian Zona | 115–120 | Ambient | 1–3 mm/jam | Pemurni Zona Horisontal |
| Ultrafiltrasi PTFE | 160–180 | ≤0.2 MPa | Aliran 1–2 m³/jam | Filter Suhu Tinggi |
| Atomisasi Nitrogen | 160–180 | 0,8–1,2 MPa | Granul 0,5–1 mm | Menara Atomisasi |
V. Kontrol Kualitas lan Pengujian
- Analisis Kotoran Jejak:
- GD-MS (Spektrometri Massa Pelepasan Cahya): Ndeteksi logam ing ≤0,01 ppb.
- Penganalisis TOC: Ngukur karbon organik ≤0,001 ppm.
- Kontrol Ukuran Partikel:
Difraksi laser (Mastersizer 3000) njamin deviasi D50 ≤±0,05 mm. - Karesikan Permukaan:
XPS (Spektroskopi Fotoelektron Sinar-X) ngonfirmasi kekandelan oksida permukaan ≤1 nm.
VI. Desain Keamanan lan Lingkungan
- Pencegahan Ledakan:
Detektor geni inframerah lan sistem banjir nitrogen njaga tingkat oksigen <3% - Kontrol Emisi:
- Gas Asam: Nggosok NaOH rong tahap (20% + 10%) mbusak ≥99,9% H₂S/SO₂.
- VOC: Rotor zeolit + RTO (850°C) ngurangi hidrokarbon non-metana dadi ≤10 mg/m³.
- Daur Ulang Sampah:
Pangurangan suhu dhuwur (1200°C) bisa mbalekake logam; kandungan sulfur residu <0,1%.
VII. Metrik Tekno-Ekonomi
- Konsumsi Energi: listrik 800–1200 kWh lan 2–3 ton uap saben ton belerang 6N.
- Asil panen: Pemulihan belerang ≥85%, tingkat residu <1,5%.
- Biaya: Biaya produksi ~120.000–180.000 CNY/ton; rega pasar 250.000–350.000 CNY/ton (kelas semikonduktor).
Proses iki ngasilake sulfur 6N kanggo fotoresist semikonduktor, substrat senyawa III-V, lan aplikasi canggih liyane. Pemantauan wektu nyata (kayata, analisis unsur LIBS) lan kalibrasi kamar resik ISO Kelas 1 njamin kualitas sing konsisten.
Cathetan sikil
- Referensi 2: Standar Pemurnian Belerang Industri
- Referensi 3: Teknik Filtrasi Lanjutan ing Teknik Kimia
- Referensi 6: Buku Pegangan Pangolahan Bahan Kemurnian Tinggi
- Referensi 8: Protokol Produksi Kimia Kelas Semikonduktor
- Referensi 5: Optimasi Distilasi Vakum
Wektu kiriman: 02-Apr-2025
